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TYTAN 实验室用低压化学气相沉积设备是专为氧化, 扩散和低压化学气相沉积应用而设计的。与其它相同产能的常规炉系统相比，它具有结构紧凑，占地空间小和省电等优势。

详情介绍

LPCVD/常压CVD 实验室用低压化学气相沉积设备详情：

一、关键设计和性能特性包括:

创新性热能设计

占地空间小

优良的工艺均匀性

设备开机率优于 95%

庞大的客户网络

专家服务

节省(50%)电能和气体消耗

便于保养和服务

二、常压工艺：

氧化工艺（湿法，干法）

固态源扩散（BN,P2O5）

液态源扩散（POCl3,BBr3）

退火

纳米材料

烧结+合金

三、低压化学气相沉积和工艺：

掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD

多晶硅 LPCVD（使用硅烷或乙硅烷）

低温氧化硅，掺杂性低温氧化硅，硼磷硅玻璃，硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD

高温氧化硅LPCVD

TEOS氧化硅LPCVD

氮化硅LPCVD（低应力型，标准型）

硅锗（Si-Ge）LPCVD

掺氧半绝缘多晶硅，碳化硅

外延硅

纳米材料LPCVD

四、关键设计和性能特点：

创新性热能设计

占地空间小

优良的工艺均匀性

设备开机率优于95%

庞大的客户网络

专家服务

节省（50%）电能和气体消耗

便于保养和服务

TYTAN炉系统对照表：

炉系统型号	1600	1800	3600	3800	4600
衬底尺寸	6’’	8’’	6’’	8’’	6’’
炉管数量	1 TUBE	1 TUBE	≤3 TUBES	≤3 TUBES	≤4 TUBES
单管产能	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD	100 ATM 50 LPCVD
恒温区长度	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm	18’’/457 mm
设备尺寸 (长度, 高度, 宽度)	L 63’’/1600 mm	L 63’’/1600 mm	L 126’’/3200 mm	L 134’’/3404 mm	L 127’’/3226 mm
	H 54’’/1372mm	H 54’’/1372mm	H 69’’/1753mm	H 82’’/2083mm	H 82’’/2083mm
	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm	D 30’’/762 mm
*大消耗电功率	18 KVA	28 KVA	40 KVA	45 KVA	50 KVA

 实验室用低压化学气相沉积设备