简要说明：德国NanoPhotonics公司成立于1997年，其设备主要用于半导体生产中晶圆、裸芯片、掩模板等的表面，边缘，背面的沉积材料及基片的缺陷探测，可用于基板如检测掩模板（光罩）上的颗粒、划痕、缺陷、微

德国NanoPhotonics公司表面缺陷检测系统

REFLEX TT 桌上型手动加载晶片和掩模板检测系统

 产品概述

德国NanoPhotonics公司成立于1997年，其设备主要用于半导体生产中晶圆、裸芯片、掩模板等的表面，边缘，背面的沉积材料及基片的缺陷探测，可用于基板如检测掩模板（光罩）上的颗粒、划痕、缺陷、微米级粗糙度等。

REFLEX TT桌面型表面缺陷检测系统是一个手动装载的激光暗场检测系统。它专门设计用来检测无图形晶圆上的颗粒、划痕、缺陷位置和微米级粗糙度。其基底夹具可以满足从2英寸到12英寸晶圆的需要。RELEX 450可以检测18英寸晶圆。REFLEX TT MB专门设计用于掩模板的检测。

简单的操作和友好的软件界面，使得REFLEX TT检测系统成为一种多功能的检测工具，是一款理想的支持工艺开发和质量控制的研发、实验室环境的检测设备。

 产品特点

REFLEX TT桌上型手动缺陷检测系统

1．   灵敏度低于65 nm

2．   激光暗场测试技术

3．   1级独立的小环境

4．   可选晶圆工作台

5．   离线式分析

6．   自动缺陷分类软件

 优势

1．工艺开发的理想工具

2．友好的用户操作和GUI

3．多中应用

4．小占地面积

5．低成本

 技术参数

可选夹具：

适用于2-6英寸晶片的真空卡盘

适用于6-18英寸晶片的真空卡盘

适用于3-8英寸的透明晶片的边缘夹爪

适用于2.5x2.5英寸—8×8英寸掩模板的边缘夹爪
扫描时间（6英寸晶片）：小于40秒（150nm缺陷）

                   小于63秒（90nm缺陷）

边缘去除：真空卡盘2mm

          边缘夹持系统4mm

重复性：3%（1σ>1000颗粒子）

洁净室级别：内部<10(ISO4)

            环境<10.000(ISO7)

系统安全保证：CE

激光等级：1级

 应用材料

硅片、掩模板、玻璃、复合半导体材料、硅上透明薄膜、金属薄膜、非晶硅、多晶硅、OLED等